Übung Halbleitertechnik II - CMOS Technik (HL II) 2022/2023 /CoursesID:3187

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Organisational Unit

Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg

Recording type

Übung / Tafelübung

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Language

German

Kapitel 1 - Dioden III - Schottky Kontakte
Kapitel 2 - Dioden IV - MIS Dioden (MIS Varaktoren)
Kapitel 3 - Transistoren II - Langkanal MISFET
Kapitel 4 - Skalierung I - (C)MOS Technology I - Inverter und Skalierungsregeln
Kapitel 5 - Skalierung II - (C)MOS technology II - Skalierung des Langkanal MISFETs
Kapitel 6 - Skalierung III - (C)MOS technology III - Isolation zwischen Transistoren
Kapitel 7 - Skalierung IV - (C)MOS technology IV - Metallisierung
Kapitel 8 - Transistoren III - Speicher - DRAM & SRAM Technology

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